產(chǎn)品中心
Product Center
熱門搜索：
Element美國EDAX能譜儀
EP6美國 Cascade Microtech EP6探針臺
TEM氮化硅薄膜窗口
NTEGRAPrima俄羅斯產(chǎn)全功能掃描探針原子力顯微鏡
Zeta-20三維光學輪廓儀
主動隔振臺ARISTT
石英/硅/聚合物模板高分辨率納米壓印模板（Mold for nanoimprint lithography）
P170全自動晶圓探針式輪廓儀/臺階儀
iNano高精度臺式納米壓痕儀
PLD/Laser-MBE脈沖激光沉積/分子束外延聯(lián)用系統(tǒng)
Lumina光學表面缺陷分析儀
P7晶圓探針式輪廓儀/臺階儀
納米團簇束流沉積系統(tǒng)
Profilm 3D經(jīng)濟三維光學輪廓儀 可測樣
Solver P47俄羅斯產(chǎn)高性價比掃描探針顯微鏡原子力
納米壓印膠
當前位置：首頁
產(chǎn)品中心電導率儀R-50方阻測試儀
產(chǎn)品簡介
Filmetrics R50 是KLA電阻測試家族的最新產(chǎn)品。R50方阻測試儀是KLA超45年電阻測量技術地位之作。電阻測量和監(jiān)控對于任何使用導電薄膜的行業(yè)都至關重要，從半導體制造到可穿戴技術所需的柔性電子產(chǎn)品。R50在金屬膜均勻性分布、離子摻雜和注入表征、薄膜厚度和電阻率分布、以及非接觸膜厚等量測均進行了優(yōu)化加強。
| 品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 檢測參數(shù) | 多參數(shù) | 儀器種類 | 臺式 |
| 應用領域 | 電子/電池,航空航天,汽車及零部件,電氣,綜合 |
KLA薄膜電阻測量技術方阻測試儀包括接觸（4PP）和非接觸（EC）方法。
Filmetrics的R50系列方塊電阻測量儀器可測量沉積在各種基材上的導電片和薄膜，跨越10個數(shù)量級范圍電阻率，包括：
-半導體晶圓基板
-玻璃基板
-塑料（柔性）基材
-PCB圖案特征
-太陽能電池
-平板顯示層和圖案化特征
-金屬箔
二、方阻測試儀主要功能
l 技術規(guī)格
測量范圍：5m Ohm/sq - 5M Ohm/sq;
測量精度： +/- 1%；
重復度： 小于 0.2%；
樣品圖中無*的測量點位，自定義測量Recipe，可線性、矩形、
極坐標以及自定義等。
Model | Description |
R50-4PP | 四探針測試 自動XY移動臺-100mm*100mm 可實現(xiàn)直接100mm晶圓方塊電阻mapping測量 可放置直徑200mm晶圓樣品 |
R50-EC | 非接觸渦流測試 自動XY移動臺-100mm*100mm 可實現(xiàn)直接100mm晶圓方塊電阻mapping非接觸測量 可放置直徑200mm晶圓樣品 |
R50-200-4PP | 四探針測試 自動XY移動臺-200mm*200mm 可實現(xiàn)直接200mm晶圓方塊電阻mapping測量 |
R50-200-EC | 非接觸渦流測試 自動XY移動臺-200mm*200mm 可實現(xiàn)直接200mm晶圓方塊電阻mapping非接觸測量 |
三、應用
支持廣泛的測量，包括但不限于以下各項：
金屬膜厚度、基板厚度、方塊電阻、電阻率、電導率、摻雜濃度等。
上一個：
返回列表
